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化学气相沉淀法是什么
cvd钻石
是什么
?
答:
CVD(Chemical Vapor Deposition
化学气相沉淀法
)钻石是以一块钻石晶片为母石,在反应炉中通电的方式,让甲烷中的碳分子不断累积到钻石晶片上,经过一层层累积,可形成纯碳原子组成的钻石原石。为使CVD的钻石“生长”顺利,碳源常用已具钻石结构的甲烷。这种“长大”的钻石,成分与矿钻并无二致,是纯净...
化学气相沉积法
有哪些反应类型,该法对反应体系有
什么
要求
答:
化学气相沉积法是指两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内
,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上.淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的.
什么是化学气相沉淀法
合成宝石
答:
化学气相沉淀法,英文名称Chemical Vapor Deposition,简称CVD法,
可以用于人工合成钻石
。最近,由于技术的突破,可以生产出大颗粒的钻石,国检中心在近期日常委托检验中,陆续发现了两批次CVD合成钻石,证明CVD合成钻石已经进入国内市场,引起了大家的关切。以下的内容是小编特别给您介绍的关于什么是化学气相沉淀...
请问CVD(
化学气相
沉积)的原理及应用?
答:
化学气相沉积是一种化工技术,
该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法
。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物...
什么是cvd法?对于mocvd,它的优点和缺点
是什么
答:
CVD
法是化学气相
沉积(Chemical Vapor Deposition)的缩写,它是一种薄膜制备技术。CVD法通过在适当的气氛中提供反应气体,使其在基底表面发生化学反应并沉积形成薄膜。该技术通常包括以下步骤:1. 反应气体供应:选择适当的反应气体或气体混合物,并通过供气系统引入反应室。2. 反应气氛控制:调节反应室的...
气相
沉积法原理
答:
气相
沉积
法是
一种在高温、低压条件下进行的
化学
反应,其中气态前体物质通过热分解或化学反应生成固体产物,沉积在基底表面上。该过程通常在真空或惰性气氛下进行,以避免氧气、水汽等对反应产生干扰。气相沉积法可用于生长各种材料的薄膜,包括金属、氮化物、氧化物等。2. 基本步骤:气相沉积法的基本步骤包括...
化学气相沉淀法
的原理,概况等等相关内容
答:
等离子
化学
汽相淀积 利用高频电场使低压下的
气体
产生辉光放电,形成非平衡等离子体,其中能量较高的电子撞击反应气体分子,促使反应在较低温度下进行,淀积成薄膜(图3)。这种工艺主要用于制备集成电路或其他半导体芯片表面钝化保护层,以提高器件可靠性和稳定性。金属有机化学汽相淀积 以金属有机化合物为...
化学气相沉淀法
合成宝石
答:
化学气相沉淀法是
以低分子碳氢化合物(甲烷CH4、乙炔C2H2、苯C6H6等)为原料所产生的气体与氢气混合(有的还加入氧气),在一定的温压条件下使碳氢化合物离解,在等离子态时生成碳离子,然后在电场的引导下,碳离子在金刚石或非金刚石(Si、SiO2、Al2O3、Si C、Cu等)衬底上生长出多晶金刚石薄膜层的方法。以金刚石为...
化学气相
沉积原理
答:
过程:化学气相沉积过程分为三个重要阶段:反应气体向基体表面扩散、反应气体吸附于基体表面、在基体表面上发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面。最常见的化学气相沉积反应有:热分解反应、化学合成反应和化学传输反应等。
化学气相沉积法之所以得到发展
,是和它本身的特点分不开的,其特点...
CVD
化学气相
沉积法反应步骤可区分为哪五个步骤?
答:
化学气相法
又称化学气相沉积法,其反应步骤为:1、用流化床进行连续处理。所以流化床-CVD 法可以生产多种碳纳米管。碳纳米管不仅可以生长在微米级的聚团状多孔催化剂颗粒上,也可生长在毫米级的陶瓷球的表面上,还可以生长在层状无机氧化物的层间,以大量得到聚团状的碳纳米管或毫米级长度的碳纳米管...
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