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高功率脉冲磁控溅射的缺点
电镀与
磁控溅射
对比
有什么
优
缺点
?
答:
两者应用环境很不一样
。磁控溅射是真空环境中镀膜,牢固性,致密性和均匀性都是很完美的。磁控溅射还可以镀光学膜。电镀之能镀金属吧。一个是化学过程,一个是物理过程。磁控溅射:磁控溅射(英语:magnetron sputtering)是在溅射的基础上,运用靶板材料自身的电场与磁场的相互电磁交互作用,在靶板附近添...
金属膜、陶瓷膜、
磁控溅射
膜,傻傻分不清?一文带你快速了解!
答:
早期的金属膜所用的金属是铝、铁等普通金属,这时候的金属膜虽然有一定的隔热性,
但是缺点也很多:清晰度不高、反光严重,严重影响行车安全
。后来用镍、银、钛、金等贵金属做原料,来生产更高端的金属膜。但贵金属膜无法用原先生产镀铝膜的工艺来生产,只能用"磁控溅射"技术来生产。所以磁控溅射是一种...
真空蒸镀与
溅射
镀膜优
缺点
答:
溅射镀膜组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)
,晶向(外沿)生长的控制也比较一般。蒸镀不适用于大规模生产,不适用于高熔点材料,如钼,钨。因为熔点高,
蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多
。溅射不适用于低硬度材料、非导电材料,如非金属材料。
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
答:
3. 激光磁控溅射:激光磁控溅射利用激光束对靶材进行局部强烈加热,使得靶材表面产生瞬间超热等离子体,从而产生原子或分子的溅射。这种技术适用于制备高温材料、高熔点材料等难以制备的材料薄膜。4.
高功率脉冲磁控溅射
:高功率脉冲磁控溅射是利用高功率脉冲电源对靶材表面进行快速加热,在极短时间内产生等离子...
“
高功率脉冲磁控溅射
”新工艺,将会给苹果带来什么优势?
答:
新的镀膜工艺使得苹果表面的镀层难以用物理方式去除
,保证了手机在长期使用后的美感不容易被破坏。而新的工艺也避免了金属表面容易印出指纹的困扰,让手机始终如新。色彩上的效果使整体观感更加符合人的审美,自带奢华气质。接下来,我就详细说明一下在运用了新的工艺之后,苹果手机增加的优势。一、表面更加...
磁控溅射的
技术分类
答:
溅射方法很多,主要有二级溅射、三级或四级溅射、
磁控溅射
、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子的扩散能力,提高沉积组织的致密程度,使制出...
在真空镀膜(
磁控溅射
)中,
脉冲
偏压电源为什么比直流电源好?
答:
但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等
缺陷
,如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜,即可赋予塑料程亮的金属外观,合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能,大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件...
磁控溅射的
分类都有哪些?
答:
3.
高功率脉冲磁控溅射
(High Power Pulse Magnetron Sputtering):利用高能量脉冲放电方式来产生短时高功率的等离子体,得到高质量的薄膜材料。4. 悬浮靶磁控溅射(Suspended Target Magnetron Sputtering):将靶材悬浮在气体中,通过外加磁场,使靶材受力的平均方向与离子轰击方向垂直,形成薄膜。5. 离子...
lowe玻璃的优
缺点
答:
1、离线Low-E玻璃一般采用真空
磁控溅射
镀膜工艺,在玻璃表面镀制多层复合膜,实现Low-E功能。最主要的优点是颜色丰富多彩,纯度、热学性能均优于在线Low-E玻璃。离线Low—E玻璃品种多样,根据不同气候特点可以制作高、中、低多种透过率产品,并且颜色上有银灰、浅灰、浅蓝和无色透明等,用着色玻璃还可...
镀膜玻璃优
缺点
有哪些?
答:
使玻璃保持高清洁度。镀膜玻璃
的缺点
也很明显,如色差、划伤、掉膜、破解等,主要是因为镀膜玻璃的生产和使用的过程中,由于生产或安装施工等方面的原因,往往使得上墙上窗后的镀膜玻璃产品存在这样或那样的质量缺陷。镀膜玻璃按产品的不同特性,可分为以下几类:热反射玻璃、低辐射玻璃、导电膜玻璃等。
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