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央视曝光中国5nm光刻机
“神兽”
光刻机
之战,大胆猜测哪一家
中国
公司能够解光刻机之围?
答:
如果说自主技术,其实我国的光刻机还停留在上海微电子(SMEE)的90nm水平,而事实上它却代表着国内最先进的光刻机水准。而光刻机巨头ASML目前的水平是7nm EUV,事实上它也正朝着更先进的极紫外
光刻机5nm
工艺水平迈进了。国内外水平差距明显。--图源上海微电子官网光刻机的现况。光刻机是半导体芯片...
目前最好的光学
曝光
分辨率
答:
低于
5nm
。
光刻机
采用类似照片冲印的技术,把掩模版上的精细图形通过光线的
曝光
印制到硅片上,经过十余代的发展迭代,目前最先进光刻机单次曝光可以做到低于5nm的分辨率。茂莱光学涉及的半导体DUV光学透镜是保障光刻机成像质量的关键,有望率先实现国产替代。
苹果、三星接连“翻车”!
5nm
芯片成魔咒,后进者的机遇来了
答:
依据摩尔定律,晶体管数量每隔18个月翻一番,芯片的性能将同步提升一倍,但受限于当前的
光刻机
制程工艺,对晶体管微缩应愈发的困难。此外,晶体管过于微缩,芯片的稳定性亦无法得到保证,容易发热,反过来又影响了芯片的使用寿命。不客气的说,
5nm
是芯片发展的“分水岭”,三星、高通等电子产业大亨在这个...
为什么
光刻机
对我国那么重要?
答:
如今
中国
在
光刻机
这一领域依旧是很大的短板,这对我们研究芯片,半导体都有着很大的影响,因此如果芯片领域被西方国家制裁,那么中国的科技领域必将受到打击。不过当前中芯国际经过资源和技术整合,将在下半年开出中国第一条14
nm
生产线,这对5G技术等行业的发展起着关键作用,相信在不久的将来中国会将自己...
光刻机
工作原理
答:
1、测量台、
曝光
台:是承载硅片的工作台。2、激光器:也就是光源,
光刻机
核心设备之一。3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不...
euv和duv有什么区别?
答:
3、光路系统不同 duv:主要利用光的折射原理。其中,浸没式
光刻机
会在投影透镜与晶圆之间,填入去离子水,使得193
nm
的光波等效至134nm。光刻机简介 光刻机(lithography)又名:掩模对准
曝光机
,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的...
国产
光刻机
飞速发展,能摆脱ASML吗?
答:
再说了,某些高校有留外传统,他们不去国外占领关键岗位,谁去收留大量去国外留学的
中国
学生?绝大多数出国留学的学生都回来了,总要有留下殿后的吧?再说了,谁说高端人才毕业必须是清华大学毕业的,歼20研制总师就不是。回来说说
光刻机
,光刻机不能急,原因是这是个产业集群,涉及到材料、精密制造和...
光刻机
对华为有多重要
答:
8. 在
中国
的“十四五”规划中,国家决心解决关键技术受制于人的问题,
光刻机
制造领域也在追赶之列。目前,从相关报道来看,中国武汉光电启如中心的研究已经取得了突破,能够实现9
nm光刻
技术,尽管与ASML的最高水平仍有较大差距。但是,在国家层面的战略规划和集中力量攻关下,我们有信心追上并超越现有...
深度分析:华为断芯,一切完了吗?终将将走向何方?
答:
目前,我国芯片在设计上已经处于国际领先定位,现在差的就是制造。而制造这个东西,相比大家都听过,需要一个东西:
光刻机
。目前世界上最先进的光刻机实际上只有荷兰能够组装生产,而荷兰实际上组装生产也拥有美国的技术参与;我们自己目前能够生产的光刻机,达不到现在
5nm
、7nm的精度,目前工艺只能到28nm...
光刻机
工作原理
答:
1、测量台、
曝光
台:是承载硅片的工作台。2、激光器:也就是光源,
光刻机
核心设备之一。3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不...
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