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光刻胶是什么材料做成的
光刻胶是什么材料做的
答:
光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的
。1、增感剂 是光刻胶的关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。2、感光树脂 用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。3、溶剂 是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶...
oc
胶
的主要成分
是什么
答:
oc胶的主要成分是由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成
。oc胶全称光刻胶,光刻胶又称为光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的
耐蚀剂刻薄膜材料
。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光...
半导体核心材料
—
光刻胶
概述
答:
光刻胶又称光致抗蚀剂,
是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料
,目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作环节。光刻胶由
增感剂
(光引发剂)、
感光树脂
(聚合剂)、溶剂与助剂构成。1)增感剂(光引发剂):是光刻胶的关键成分,对光刻...
光刻胶是什么材料
光刻胶成分
答:
1、光刻胶(photoresist,也作光致抗蚀剂,光阻),
是一种由聚合物树脂(resin),光敏化合物(photoactive compound)和溶剂等混合而成的胶状液体
,从成份上来讲,都是碳基有机化合物。2、树脂,作为粘合剂的聚合物混合物,决定了光刻胶的机械和化学性能;光敏化合物,决定了光刻胶的光敏感度:当...
光刻胶的
主要成分
答:
更为精细的分类则基于
感光树脂
的化学结构,光聚合型胶采用烯类单体,经光照聚合形成正像;光分解型胶,如含叠氮醌的材料,在光照下解聚成可溶性物质,适用于正性胶;光交联型胶如KPR胶,利用聚乙烯醇月桂酸酯的交联特性,形成抗蚀的网状结构,是负性光刻胶的典范。为了突破分辨率的极限,以适应超大规模...
什么是光刻胶
答:
光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的
材料
,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可以
制成
正性胶。光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,这是一种典型的负性
光刻胶
。
光刻胶是什么
东西
答:
光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的
耐蚀剂刻薄膜材料
。由
感光树脂、增感剂
和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其...
半导体核心材料
—
光刻胶
概述
答:
1. 光刻胶:核心与构建光刻胶,亦称光致抗蚀剂,是通过特定光源的照射引发化学反应的特殊薄膜材料。它的组成包括
增感剂
(决定感光度和分辨率的关键)
、感光树脂
(构筑结构的基础)、溶剂(保持液态)以及助剂(调节特定性质)。增感剂和感光树脂的性能直接影响光刻胶的性能表现。2. 光刻胶世界分类光刻...
光刻胶
属于
什么
板块
答:
光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一,是由
感光树脂、增感剂
和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下,其溶解度发生变化,经适当溶剂处理,溶去可溶性部分,最终得到所需图像。按显示效果分类,光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。按照...
光刻胶是什么材料
起什么作用
答:
光致抗蚀剂通常以薄膜的形式均匀地涂覆在衬底的表面上。当受到紫外光或电子束照射时,
光致抗蚀剂材料
本身的特性会发生变化。用显影剂显影后,曝光的负性
光刻胶
或未曝光的正性光刻胶会残留在基底表面,从而将设计好的微纳结构转移到光刻胶上。后续的刻蚀、沉积等工艺可以进一步将这种图案转移到光刻胶...
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