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光刻胶的主要成分及用途
光刻胶
是什么材料 起什么作用
答:
材料:由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体
。作用:
在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料
。
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂
,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性...
光刻胶
是什么东西
答:
光刻胶是光致抗蚀剂
。光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由
感光树脂、增感剂和溶剂
3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料
。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需...
光刻胶的主要成分
答:
在高科技的光电信息产业中,光刻胶,亦名
光致抗蚀剂
,犹如精密工艺的魔术师,
其作用在于通过光照或辐射引发化学反应,塑造微细图形的蓝图
。它的神奇之处在于由四个关键成分编织而成:
增感剂
,如同光线的催化剂,对光刻胶的感光度和分辨率起着决定性的作用,赋予它在光线照射下的敏感性;
感光树脂
,作为...
光刻胶
是什么材料做的
答:
1、增感剂 是光刻胶的关键成分
,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。2、
感光树脂
用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。3、
溶剂
是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。
光刻胶的
作用
答:
显影液、去胶液、稀释剂、增附剂(粘附剂)、定影液等。4.光刻胶成分 光刻胶一般由4部分组成:树脂型聚合物(resin/polymer),
溶剂
(solvent),光活性物质(photoactive compound,PAC),添加剂(Additive)。 其中,树脂型聚合物是光刻胶的主体,它使光刻胶具有耐刻蚀性能;溶剂使光刻胶处于液体...
光刻
分辨率和树脂的关系
答:
光刻胶主要成分:树脂(聚合物):在光照下不发生化学反应,主要作用是保证光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性,也决定了一些其他特性如膜厚、弹性、热稳定性等。感光剂:受特定波长光照后在曝光区发生光固化反应,使得材料的物理特性,尤其是溶解性发生显著变化。
溶剂
:为了方便涂覆,要将溶质加入溶剂进行溶解...
光刻机
和光刻胶的
区别
答:
光刻机则是一种机械设备,它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的过程。2、应用场景:
光刻胶主要
用于光刻工艺中,其性能和质量对芯片的制程精度和性能起着关键作用。而光刻机是制造芯片的核心装备。通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学...
光刻胶是什么材料
光刻胶成分
答:
1、光刻胶(photoresist,
也作光致抗蚀剂
,光阻),是一种由聚合物树脂(resin),光敏化合物(photoactive compound)和
溶剂
等混合而成的胶状液体,从成份上来讲,都是碳基有机化合物。2、树脂,作为粘合剂的聚合物混合物,决定了光刻胶的机械和化学性能;光敏化合物,决定了光刻胶的光敏感度:当...
光刻胶
属于什么板块
答:
光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一,
是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体
。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下,其溶解度发生变化,经适当溶剂处理,溶去可溶性部分,最终得到所需图像。按显示效果分类,光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。按照...
光刻胶
是什么材料起什么作用
答:
光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。
光刻胶的
英文名是resist,也翻译成resist、photoresist等。
光致抗蚀剂的
功能是作为抗蚀刻层保护衬底表面。光致抗蚀剂只是一种图像,因为它在外观上是以胶状液体出现的。光致抗蚀剂通常以薄膜...
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