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中国首台5纳米光刻机
中国
第一
台光刻机
是谁制造的
答:
首台
国产
光刻机
是上海微电子装备(集团)股份有限公司研发的。上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。SMEE致力于以...
中国光刻机
是谁研发的
答:
首台
国产
光刻机
是上海微电子装备(集团)股份有限公司研发的。上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。SMEE致力于以...
中国
的
光刻机
是什么水平?与世界先进还有多大差距?如何追赶?
答:
第二,中国进口最先进的
光刻机
,是7nm。2018年,中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机,当时预交了1.2亿美元的定金。请注意,当时这台机器还没有交付,而是下订单。但国内市场上,其实已经有7nm光刻机。在2018年12月,SK海力士无锡工厂进口了
中国首台
7nm光刻机。海力士也是ASML的股东...
能造
5
nm芯片的euv
光刻机
,三大核心技术
答:
1. 概述 EUV(Extreme Ultra Violet)光刻技术是目前半导体生产中最重要的先进制造技术之一。它是一项先进的制造技术,可以将微型和纳米电子元件的大小减小到
5纳米
。当今市场上许多领先的半导体公司,如Intel和TSMC,已经开始将EUV纳入其生产流程。2. EUV
光刻机
的核心技术 EUV光刻机主要由三个部分组成:...
光刻机
最先进的是多少
纳米
答:
是90纳米。查询官网可以知道,如今最先进的
光刻机
是600系列,光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机,最高可以达到
5纳米
的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露,预计
我国
第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍...
中国
的
光刻机
在哪里?
答:
国内
唯一一台7nm
光刻机
在武汉弘芯。中芯国际所采购的ASML光刻机设备,只能够实现14nm芯片量产,国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备,而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机,当时武汉弘芯还举行了重大的入场仪式。光刻机,又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等...
光刻机
是干什么用的
答:
这个技术到底有多难呢,对于不先进的
光刻机
来说,通过大力研发这当然并不难实现,但是对于现在高度集成的芯片来说,
5
nm甚至5nm以下的芯片制造工艺,就需要更加精细的光刻机了。(图源:twitter)用光刻机来制造芯片,这些制造工艺都是
纳米
级别的,拿世界上最先进的EUV光刻机来说,一台荷兰ASML公司生产...
华为搞IDM现实吗?
答:
华为有强大的IPD研发流程,有CMM软件成熟度评估体系,所以一旦正式立项,一年内应该可以开发出28
纳米光刻机
,两年内可以达到7-14纳米,3年内可以达到
5纳米
水平,5年内可以追平ASML,和中芯国际一起追平台积电。 一旦华为在EDA软件、光刻机、芯片上追平美国、ASML、台积电,则
中国
的芯片产业将碾压美国,中国将从芯片进口国变...
中国
芯片技术发展到哪一步了?
答:
中国
现在能做14nm芯片。14nm并不是停在实验室里面的研发,也不是投产,而是规模量产。此外90nm
光刻机
、
5
nm刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等也实现突破。此次14nm虽然量产,但其实与国际水平还有着较大的差距,尤其是光刻机,我们还依旧依赖着国外的技术,光刻机大概率还是用ASML的。光刻机...
原子弹与
光刻机
哪个更难造?
视频时间 01:30
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