中国有光刻机,位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的作用:
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。
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