针对太阳能硅片切割后的硅片清洗剂可以选用哪些原料?

有没有推荐的表面活性剂?

针对硅片硅粉的清洗,选取众多表活进行测试,最终认为FAS-1阴离子表面活性剂在对硅片有强去污力、低泡的同时,亦具有较高的性价比,可用于硅片清洗中极大提高对硅粉的清洗力。

1.硅片清洗测试

按硅片常规清洗剂配比配制清洗剂A,并在A基础上复配适量FAS-1配制清洗剂B,在相同测试条件下清洗,结果如图1所示。清洗剂A清洗力较差,硅片残留大量硅粉,而复配FAS-1的清洗剂B将硅粉完全清洗干净,说明FAS-1对硅粉有较强的去除力,提升效果明显。

2.泡沫测试

硅片清洗剂若有丰富的泡沫会导致硅片漂洗不干净,增加漂洗次数,浪费更多的水及能耗资源。

按照相同活性物浓度,对FAS-1、NP-10、FMES测试发泡性能,具体数据参考图2。FAS-1具有更低的泡沫,比常规非离子表活NP-10的泡沫更低。因此,FAS-1非常适用于硅片清洗中。

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