光刻机工作原理

Question

如题所述

Answer 1

光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用。

这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。简单点来说，光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。

镜头是光刻机最核心的部分，采用的不是一般的镜头，可以达到高2米直径1米，甚至更大。光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，目前光刻机镜头最强大的是老牌光学仪器公司德国蔡司。

光刻机的分类

1、接触式光刻机

接触式光刻机是最早出现的光刻机，它的曝光方式是将掩模与硅片直接接触，然后通过紫外线曝光将图案转移到硅片上。这种光刻机的优点是曝光精度高，但缺点是掩模容易磨损，且只能进行单层曝光。

2、非接触式光刻机

非接触式光刻机是近年来发展起来的一种新型光刻机，它的曝光方式是通过光学透镜将掩模上的图案投射到硅片上。这种光刻机的优点是曝光速度快，且可以进行多层曝光，但缺点是曝光精度稍低。

3、紫外线光刻机

紫外线光刻机是目前应用最广泛的光刻机，它的曝光波长在365nm左右。这种光刻机的优点是曝光速度快，且曝光精度高，但缺点是只能进行单层曝光。