5nm光刻机的原理

Question

如题所述

Answer 1

1、光刻机根据应用领域可分为芯片生产用、封装用和LED制造用。按照光源类型及其发展顺序，光刻机依次采用紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV），其中光源波长影响着光刻机的工艺能力。光刻技术主要分为接触式光刻、直写式光刻和投影式光刻三种。
2、光刻机的工作原理如下：接触式或接近式光刻技术通过将光束与掩模板紧密接触，从而复制出掩模板上的微小图案；直写式光刻则是利用聚焦后的光束，通过移动工件台或旋转镜头的方式，实现对任意图形的直接加工。由于其高效率和不会对材料造成损伤的特点，投影式光刻成为了集成电路制造中的主流技术。